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三室真空熔煉爐 真空熔煉爐 真空霧化制粉爐
真空氫化爐
Vacuum hydrogenation furnace
所屬分類(lèi)：
關(guān)鍵詞：
真空氫化爐
咨詢(xún)熱線(xiàn)：
真空氫化爐
一．簡(jiǎn)介：
本爐是在真空狀態(tài)、加熱和充入氫氣條件下使物料在反應(yīng)器皿中發(fā)生氫化反應(yīng)。
本設(shè)備包括反應(yīng)罐、加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、防護(hù)系統(tǒng)。
二．特點(diǎn)：
1.各個(gè)工藝參數(shù)能在觸摸屏上工況允許的范圍內(nèi)任意設(shè)定。
2.爐料可通過(guò)爐內(nèi)的葉片旋出，還可以?xún)A斜旋轉(zhuǎn)倒出。
3.設(shè)有氫氣綜合報(bào)警裝置，設(shè)備運(yùn)行可靠。
4.本HDDR爐適合小批量的生產(chǎn)及研究部門(mén)實(shí)驗(yàn)室用。
三．參數(shù)：
1．最高使用溫度： 1100℃
2．最高真空度： ≤6.67X10-3Pa
3．最大允許工作壓力： ≤0.1MPa
4．壓升率： 2Pa/小時(shí)
5．加熱功率： 根據(jù)用戶(hù)工藝要求定制
6．裝料量： 根據(jù)用戶(hù)工藝要求定制
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