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三室真空熔煉爐 真空熔煉爐 真空霧化制粉爐
真空氫化爐
Vacuum hydrogenation furnace
所屬分類(lèi):
關(guān)鍵詞:
真空氫化爐

咨詢(xún)熱線(xiàn):
真空氫化爐
一.簡(jiǎn)介:
本爐是在真空狀態(tài)、加熱和充入氫氣條件下使物料在反應(yīng)器皿中發(fā)生氫化反應(yīng)。
本設(shè)備包括反應(yīng)罐、加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、防護(hù)系統(tǒng)。
二.特點(diǎn):
1.各個(gè)工藝參數(shù)能在觸摸屏上工況允許的范圍內(nèi)任意設(shè)定。
2.爐料可通過(guò)爐內(nèi)的葉片旋出,還可以?xún)A斜旋轉(zhuǎn)倒出。
3.設(shè)有氫氣綜合報(bào)警裝置,設(shè)備運(yùn)行可靠。
4.本HDDR爐適合小批量的生產(chǎn)及研究部門(mén)實(shí)驗(yàn)室用。
三.參數(shù):
1.最高使用溫度: 1100℃
2.最高真空度: ≤6.67X10-3Pa
3.最大允許工作壓力: ≤0.1MPa
4.壓升率: 2Pa/小時(shí)
5.加熱功率: 根據(jù)用戶(hù)工藝要求定制
6.裝料量: 根據(jù)用戶(hù)工藝要求定制
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